三星3奈米製程再被指稱良率過低。（圖／美聯社）
三星預計於2022上半年量產3奈米製程晶片，外媒最新報導，遇到的困難似乎比4奈米更高。
外媒wccftech表示，三星3奈米商用化在即，但面臨了良率過低的問題。4奈米良率約35%，3奈米試產良率最高僅20%，相較更不理想。雖然三星3奈米將率先導入GAA技術，速度比競爭對手略快，仍有不少難關要突破。
也因為良率低迷等問題，業內人士推測首批3奈米量產會先用於自家產品，先前曾有消息指稱三星正在為Galaxy手機開發獨有的晶片，但不確定是否有關聯性。
wccftech另評論，若三星遲遲不解決良率等問題，恐怕會繼續失去高通等訂單。
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